国内又一家企业光刻胶产品取得新进展，上海新阳(300236 SZ)6月30日盘后发布公告称，公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶已通过客户验证，并
国内又一家企业光刻胶产品取得新进展，上海新阳(300236.SZ)6月30日盘后发布公告称，公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶已通过客户验证，并取得首笔订单。公司相关负责人表示，这个产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，首笔订单已经取得，后续该产品将进入产业化阶段。
随着全球缺芯潮继续蔓延，晶圆代工厂的扩产势能已传导至产业链上游。而光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料，仍面临较大缺口。
当下国产光刻胶与国外差距较大，用于生产6英寸硅片的g/i线光刻胶自给率为20%，生产8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，制程更高的ArF和EUV胶则尚无量产，中高端光刻胶的市场份额几乎被海外龙头垄断。
早前受福岛地震影响，全球光刻胶龙头之一的日本信越化学产能受限，并限制对华出口KrF光刻胶，进一步加剧了国内光刻胶供应紧张局面。目前KrF光刻胶在国内仅有彤程新材(603650.SH)的子公司北京科华实现量产，产能为10吨/年左右。
限供和缺货也加速了光刻胶在本土下游晶圆厂的验证。除此次发布公告的上海新阳外，南大光电(300346.SZ)自主研发的ArF光刻胶于近日通过第二家客户验证，并获小批量订单;晶瑞股份(300655.SZ)的KrF光刻胶亦进入客户验证尾期。据业内人士介绍，通常情况下，光刻胶研发投产后，需经12～18个月的客户验证周期。
在国产化良机推动下，上述公司也在加码半导体光刻胶的相关研发和产能建设。上海新阳和晶瑞股份都在今年上半年购入ASML光刻机，用于湿法ArF光刻胶的研发;彤程新材则在5月发布公告称，子公司彤程电子投资5.7亿元在上海建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目。
